Zobrazeno 1 - 10 of 61 pro vyhledávání: '"Pivovarenok, S. A."'
1
Akademický článek
Influence of Mixture Composition on Electrophysical Parameters and Emission Spectra of Trifluoromethane Plasma with Oxygen and Argon.
Autor: Pivovarenok, S. A.1 (AUTHOR) sap@isuct.ru, Murin, D. B.1 (AUTHOR), Grazhdyan, A. Yu.1 (AUTHOR)
Publikováno v: High Energy Chemistry. Apr2023, Vol. 57 Issue 2, p163-167. 5p.
Zobrazit plný text záznamu
2
Akademický článek
Influence of Mixture Composition on Electrophysical Parameters and Emission Spectra of Tetrafluoromethane and Trifluoromethane Plasma with Nitrogen.
Autor: Pivovarenok, S. A.1 (AUTHOR) sap@isuct.ru, Murin, D. B.1 (AUTHOR), Grazhdyan, A. Yu.1 (AUTHOR)
Publikováno v: High Energy Chemistry. Apr2023, Vol. 57 Issue 2, p151-155. 5p.
Zobrazit plný text záznamu
3
Akademický článek
The Importance of Taking into Account the Heterogeneous Recombination of Atoms when Studying the Kinetics of Copper Etching in Chlorine Plasma.
Autor: Sitanov, D. V.1 (AUTHOR) sitanov@isuct.ru, Pivovarenok, S. A.1 (AUTHOR), Murin, D. B.1 (AUTHOR)
Publikováno v: High Temperature. 2022 Suppl2, Vol. 60, pS146-S152. 7p.
Zobrazit plný text záznamu
4
Akademický článek
Kinetics of Silicon Etching in Trifluoromethane Plasma.
Autor: Pivovarenok, S. A.1 (AUTHOR) sap@isuct.ru, Murin, D. B.1 (AUTHOR)
Publikováno v: High Energy Chemistry. Jun2022, Vol. 56 Issue 3, p197-200. 4p.
Zobrazit plný text záznamu
5
Akademický článek
Effect of Mixture Composition on Electrophysical Parameters and Emission Spectra of Dichlorodifluoromethane Plasma with Oxygen and Helium.
Autor: Pivovarenok, S. A.1 (AUTHOR) sap@isuct.ru, Bakshina, P. I.1 (AUTHOR)
Publikováno v: High Energy Chemistry. May2021, Vol. 55 Issue 3, p233-237. 5p.
Zobrazit plný text záznamu
6
Akademický článek
Electrophysical Characteristics of Atmospheric Pressure Discharge with Aqueous Potassium Permanganate Solution as Cathode.
Autor: Pivovarenok, S. A.1 (AUTHOR) sap@isuct.ru
Publikováno v: High Energy Chemistry. Sep2019, Vol. 53 Issue 5, p376-379. 4p.
Zobrazit plný text záznamu
7
Akademický článek
Controlling Silicon Etching Parameters in RF CHF3 Plasma by Optical Emission Spectroscopy.
Autor: Murin, D. B., Chesnokov, I. A., Pivovarenok, S. A., Efremov, A. M.
Publikováno v: Russian Microelectronics; Feb2023, Vol. 52 Issue 1, p1-8, 8p
Zobrazit plný text záznamu
8
Akademický článek
Kinetics of Atomic Recombination on Silicon Samples in Chlorine Plasma.
Autor: Sitanov, D. V.1 sitanov@isuct.ru, Pivovarenok, S. A.1 sap@isuct.ru
Publikováno v: Plasma Physics Reports. Aug2018, Vol. 44 Issue 8, p713-722. 10p.
Zobrazit plný text záznamu
9
Akademický článek
Electrophysical Characteristics and Emission Spectra of Carbon Tetrafluoride Plasma.
Autor: Murin, D. B., Pivovarenok, S. A., Chesnokov, I. A., Gogulev, I. A.
Publikováno v: Russian Microelectronics; Dec2022, Vol. 51 Issue 6, p368-375, 8p
Zobrazit plný text záznamu
10
Akademický článek
Spectral Control of the Process of Copper Etching in Radio Frequency Dichlorodifluoromethane Plasma.
Autor: Murin, D. B., Pivovarenok, S. A., Dunaev, A. V., Chesnokov, I. A., Gogulev, I. A.
Publikováno v: Russian Microelectronics; Dec2022, Vol. 51 Issue 6, p359-367, 9p
Zobrazit plný text záznamu

Vyhledávací nástroje:

Upřesnit hledání

Omezení vyhledávání
Plný text Recenzováno Digitální knihovna AV ČR
Zdroje