Zobrazeno 1 - 10
of 6 072
pro vyhledávání: '"Photomask"'
Autor:
Hao-Hsuan Huang, Yun-Hsun Huang
Publikováno v:
IEEE Access, Vol 12, Pp 74607-74618 (2024)
Predictive Maintenance (PdM) plays a key role in production management by extending the lifespan of components and reducing maintenance costs. In the manufacture of semiconductors, the scarcity of data related to haze defects makes it difficult to dr
Externí odkaz:
https://doaj.org/article/153d8d65f36043539bb1c983b9dd2b32
Autor:
Sukjong Bae, Flip de Jong, Rik Nuyts, Rahul Sasikumar, Haifeng Yuan, Seongjune Min, Jin Choi, Sanghee Lee, Joonsoo Park, Johan Hofkens
Publikováno v:
Micro and Nano Engineering, Vol 19, Iss , Pp 100180- (2023)
The fabrication of highly qualified patterns for photomasks using an electron beam writer is one of the key methods to achieve the requirements for high-end semiconductor devices manufacturing. We demonstrate in-situ examination of morphology changes
Externí odkaz:
https://doaj.org/article/c0251609fd034b55b5cde3fe0458f653
Publikováno v:
Micromachines, Vol 14, Iss 8, p 1524 (2023)
Modern optical systems often require small, optically effective structures that have to be manufactured both precisely and cost-effectively. One option to do this is using nanoimprint lithography (NIL), in which the optical structures are replicated
Externí odkaz:
https://doaj.org/article/9a6e2b40712b4ad780955bba02f7bb37
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
Autor:
Mojtahedi, Simon
This thesis explores how the diffraction pattern in the near-field region of a chromium feature edge on a photomask gets altered for three scenarios: First, an analytical study using the Fresnel diffraction integral is performed that investigates wha
Externí odkaz:
http://urn.kb.se/resolve?urn=urn:nbn:se:uu:diva-533774
Publikováno v:
Applied Sciences, Vol 12, Iss 19, p 10010 (2022)
There are strict requirements on the surface-shape accuracy, cracks, scratches, and subsurface damage of photomask glass substrates with the advancement of photo-etching technology. In this study, photomask quartz glass substrates were etched with th
Externí odkaz:
https://doaj.org/article/3d9a96b098314c6bae9674cb4d6a714c
Autor:
Weber, Charles M.1 webercm@gmail.com, Bergiund, C. Neil1 neil@nwtgc.com, Gabella, Patricia2 pat.gabella@sematech.org
Publikováno v:
IEEE Transactions on Semiconductor Manufacturing. Nov2006, Vol. 19 Issue 4, p465-474. 10p. 6 Charts, 3 Graphs.
Publikováno v:
Micromachines, Vol 13, Iss 8, p 1357 (2022)
We present a robust, low-cost fabrication method for implementation in multilayer soft photolithography to create a PDMS microfluidic chip with features possessing multiple height levels. This fabrication method requires neither a cleanroom facility
Externí odkaz:
https://doaj.org/article/ff9c04dbefa4470990d1bb98fb18e1a4
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.