Zobrazeno 1 - 4 of 4 pro vyhledávání: '"Pezoltd, J."'
1
Akademický článek
Effect of deposition temperature on the properties of amorphous silicon carbide thin films
Autor: Huran, J., Hotový, I., Pezoltd, J., Balalykin, N.I., Kobzev, A.P.
Publikováno v: In Thin Solid Films 2006 515(2):651-653
Zobrazit plný text záznamu
2
Conference
PECVD Silicon Carbon Nitrid Thin Films: Properties.
Autor: Bohacek, P., Huran, J., Kobzev, A.P., Balalykin, N.I., Pezoltd, J.
Publikováno v: 2008 International Conference on Advanced Semiconductor Devices & Microsystems; 2008, p291-294, 4p
Zobrazit plný text záznamu
3
Conference
Hydrogenated Amorphous Carbon Films Prepared by Plasma-enhanced Chemical Vapor Deposition.
Autor: Huran, J., Kobzev, A.P., Balalykin, N.I., Pezoltd, J.
Publikováno v: 2008 International Conference on Advanced Semiconductor Devices & Microsystems; 2008, p127-130, 4p
Zobrazit plný text záznamu
4
Conference
RF plasma deposition of thin amorphous silicon carbide films using a combination of silan and methane.
Autor: Huran, J., Hotovy, I., Pezoltd, J., Balalykin, N.I., Kobzev, A.P.
Publikováno v: 2006 International Conference on Advanced Semiconductor Devices & Microsystems (9781424403691); 2006, p59-62, 4p
Zobrazit plný text záznamu

Vyhledávací nástroje:

Upřesnit hledání

Omezení vyhledávání
Plný text Recenzováno Digitální knihovna AV ČR
Zdroje