Zobrazeno 1 - 10
of 36
pro vyhledávání: '"Pershyn, Y.P."'
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
Autor:
Devizenko, A.Yu., Kopylets, I.A., Kondratenko, V.V., Pershyn, Y.P., Devizenko, I.Y., Zubarev, E.N., Savitskiy, B.A.
The structure, construction and mechanical stresses of the TaSi₂/Si multilayer manufactured by magnetron sputtering on the heated substrates were studied in the initial state and after thermal annealing. Deposition of multilayers is accompanied by
Externí odkaz:
https://explore.openaire.eu/search/publication?articleId=od______1456::f13c72fb1c18ff575dadc8fa24247b80
http://dspace.nbuv.gov.ua/handle/123456789/157428
http://dspace.nbuv.gov.ua/handle/123456789/157428
Autor:
Voronov, D.L., Zubarev, E.N., Pershyn, Y.P., Sevryukova, V.A., Kondratenko, V.V., Vinogradov, A.V., Artioukov, I.A., Uspenskiy, Y.A., Grisham, M., Vaschenko, G., Menoni, C.S., Rocca, J.J.
Publikováno v:
Voronov, D.L.; Zubarev, E.N.; Pershyn, Y.P.; Sevryukova, V.A.; Kondratenko, V.V.; Vinogradov, A.V.; et al.(2008). Structural transformations in Sc/Si multilayers irradiated by EUV lasers. Lawrence Berkeley National Laboratory. Lawrence Berkeley National Laboratory: Lawrence Berkeley National Laboratory. Retrieved from: http://www.escholarship.org/uc/item/4jk2j0b4
Multilayer mirrors for the extreme ultraviolet (EUV) are key elements for numerous applications of coherent EUV sources such as new tabletop lasers and free-electron lasers. However the field of applications is limited by the radiation and thermal st
Externí odkaz:
https://explore.openaire.eu/search/publication?articleId=od_______325::a554a85b5e56b234884bc1b6e78c0e8e
http://www.escholarship.org/uc/item/4jk2j0b4
http://www.escholarship.org/uc/item/4jk2j0b4
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.