Zobrazeno 1 - 10 of 36 pro vyhledávání: '"Peckerar, M. C."'
1
Akademický článek
X-ray sensitivity of a charge-coupled-device array.
Autor: Peckerar, M. C., Baker, W. D., Nagel, D. J.
Publikováno v: Journal of Applied Physics; Jun1977, Vol. 48 Issue 6, p2565-2569, 5p
Zobrazit plný text záznamu
2
Akademický článek
Measurement and calculation of absolute intensities of x-ray spectra.
Autor: Brown, D. B., Gilfrich, J. V., Peckerar, M. C.
Publikováno v: Journal of Applied Physics; Oct1975, Vol. 46 Issue 10, p4537-4540, 4p
Zobrazit plný text záznamu
3
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
4
Akademický článek
Improving pattern placement using through-the-membrane signal monitoring.
Autor: Perkins, F. K., Marrian, C. R. K., Peckerar, M. C.
Publikováno v: Journal of Vacuum Science & Technology: Part B-Microelectronics & Nanometer Structures; 1998, Vol. 16 Issue 6, p3567-3571, 5p
Zobrazit plný text záznamu
5
Akademický článek
Modeling of electron elastic and inelastic scattering.
Autor: Marrian, C. R. K., Perkins, F. K., Park, D., Dobisz, E. A., Peckerar, M. C., Rhee, K.-W., Bass, R.
Publikováno v: Journal of Vacuum Science & Technology: Part B-Microelectronics & Nanometer Structures; 1996, Vol. 14 Issue 6, p3864-3869, 6p
Zobrazit plný text záznamu
6
Akademický článek
Proximity correction algorithms and a co-processor based on regularized optimization. I. Description of the algorithm.
Autor: Peckerar, M. C., Chang, S., Marrian, C. R. K.
Publikováno v: Journal of Vacuum Science & Technology: Part B-Microelectronics & Nanometer Structures; 1995, Vol. 13 Issue 6, p2518-2525, 8p
Zobrazit plný text záznamu
7
Akademický článek
Effects of etch chemistry on SF6-based tungsten etching by electron cyclotron resonance reactive ion etching.
Autor: Eddy, C. R., Kosakowski, J., Shirey, L. M., Dobisz, E. A., Rhee, K. W., Chu, W., Foster, K. W., Marrian, C. R. K., Peckerar, M. C.
Publikováno v: Journal of Vacuum Science & Technology: Part B-Microelectronics & Nanometer Structures; 1994, Vol. 12 Issue 6, p3351-3355, 5p
Zobrazit plný text záznamu
8
Akademický článek
Conductance quantization in a GaAs electron waveguide device fabricated by x-ray lithography.
Autor: Chu, W., Eugster, C. C., Moel, A., Moon, E. E., del Alamo, J. A., Smith, Henry I., Schattenburg, M. L., Rhee, K. W., Peckerar, M. C., Melloch, M. R.
Publikováno v: Journal of Vacuum Science & Technology: Part B-Microelectronics & Nanometer Structures; 1992, Vol. 10 Issue 6, p2966-2969, 4p
Zobrazit plný text záznamu
9
Akademický článek
Fabrication of parallel quasi-one-dimensional wires using a novel conformable x-ray mask technology.
Autor: Ghanbari, R. A., Chu, W., Moon, E. E., Burkhardt, M., Yee, K., Antoniadis, D. A., Smith, Henry I., Schattenburg, M. L., Rhee, K. W., Bass, R., Peckerar, M. C., Melloch, M. R.
Publikováno v: Journal of Vacuum Science & Technology: Part B-Microelectronics & Nanometer Structures; 1992, Vol. 10 Issue 6, p3196-3199, 4p
Zobrazit plný text záznamu
10
Akademický článek
An error measure for dose correction in e-beam nanolithography.
Autor: Pati, Y. C., Teolis, A., Park, D., Bass, R., Rhee, K., Bradie, B., Peckerar, M. C.
Publikováno v: Journal of Vacuum Science & Technology: Part B-Microelectronics Processing & Phenomena; 1990, Vol. 8 Issue 6, p1882-1888, 7p
Zobrazit plný text záznamu

Vyhledávací nástroje:

Upřesnit hledání

Omezení vyhledávání
Plný text Recenzováno Digitální knihovna AV ČR
Zdroje