Zobrazeno 1 - 2
of 2
pro vyhledávání: '"Paulus, Claudia"'
Autor:
Henning, Alex, Bartl, Johannes D., Zeidler, Andreas, Qian, Simon, Bienek, Oliver, Jiang, Chang-Ming, Paulus, Claudia, Rieger, Bernhard, Stutzmann, Martin, Sharp, Ian D.
Atomic layer deposition (ALD) is an essential tool in semiconductor device fabrication that allows the growth of ultrathin and conformal films to precisely form heterostructures and tune interface properties. The self-limiting nature of the chemical
Externí odkaz:
http://arxiv.org/abs/2102.03642
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.