Zobrazeno 1 - 8
of 8
pro vyhledávání: '"Paul O. Stump"'
Publikováno v:
Nuclear Instruments and Methods in Physics Research Section B: Beam Interactions with Materials and Atoms. 21:612-617
The use of rapid thermal processing (RTP) is expanding greatly in semiconductor processing. As demands on equipment become greater, the need to characterize system performance also increases. One aspect of RTP equipment performance which has proven d
Externí odkaz:
https://explore.openaire.eu/search/publication?articleId=doi_________::c963937abb15f9bbd986c9a2fbad41b7
https://doi.org/10.1016/0168-583x(87)90921-9
https://doi.org/10.1016/0168-583x(87)90921-9
Publikováno v:
Canadian Journal of Physics. 63:881-885
It has been found that the advantages of rapid thermal processing during various stages of semiconductor processing are strongly dependent on the source used to heat the wafer and the system configuration. Examples of process data are presented that
Externí odkaz:
https://explore.openaire.eu/search/publication?articleId=doi_________::1010c62fe8a9c8ee373b1b305453f7fb
https://doi.org/10.1139/p85-143
https://doi.org/10.1139/p85-143
Autor:
Jeffrey C. Gelpey, Paul O. Stump
Publikováno v:
Nuclear Instruments and Methods in Physics Research Section B: Beam Interactions with Materials and Atoms. 6:316-320
Rapid annealing techniques using graphite strip heaters [1], tungsten-halogen lamps [2], and conventional arc lamps [3] have been gaining favor to provide controllable activation of ion implants while minimizing the diffusion of the implanted dopant.
Externí odkaz:
https://explore.openaire.eu/search/publication?articleId=doi_________::c114dd93e9322edb7cfcf040963b1c35
https://doi.org/10.1016/0168-583x(85)90651-2
https://doi.org/10.1016/0168-583x(85)90651-2
Publikováno v:
MRS Proceedings. 52
When high temperature processes are being carried out in a diffusion furnace, temperature control is accomplished in a straight forward manner. By using thermocouples and a proportional controller, sufficient accuracy and control are available to the
Externí odkaz:
https://explore.openaire.eu/search/publication?articleId=doi_________::6c548b1d09b78c3f519e4bc3bd68232f
https://doi.org/10.1557/proc-52-199
https://doi.org/10.1557/proc-52-199
Publikováno v:
MRS Proceedings. 52
The uses of Rapid Thermal Annealing or Rapid Thermal Processing (RTP) have been expanding beyond the original post implant annealing. RTP has been used to reflow low temperature oxides (PSG or BPSG), anneal silicides and to sinter contacts. One appli
Externí odkaz:
https://explore.openaire.eu/search/publication?articleId=doi_________::b4bb1de20c8a92321203bbe21744b51f
https://doi.org/10.1557/proc-52-321
https://doi.org/10.1557/proc-52-321
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
Conference
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
Conference
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.