Zobrazeno 1 - 3
of 3
pro vyhledávání: '"Paul Konicek"'
Publikováno v:
SPIE Proceedings.
In this paper we present and characterize a NIST-traceable, all-silicon, 100 nm pitch structure with the necessary quality attributes to calibrate CD-SEM tools used for metrology of sub-0.25 micron semiconductor process technology.
Publikováno v:
SPIE Proceedings.
Sizing of programmed defects on optical proximity correction (OPC) feature sis addressed using high resolution scanning electron microscope (SEM) images and image analysis techniques. A comparison and analysis of different sizing methods is made. Thi
Conference
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.