Zobrazeno 1 - 10
of 51
pro vyhledávání: '"Paschen law"'
Publikováno v:
Aerospace, Vol 11, Iss 8, p 690 (2024)
This article proposes a photovoltaic power processor for high-voltage and high-power distribution bus, between 300 V and 900 V, to be used in future space platforms like large space stations or lunar bases. Solar arrays with voltages higher than 100
Externí odkaz:
https://doaj.org/article/23ffaecb30094f20a2adf0910117d275
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
Publikováno v:
Papers in Physics, Vol 14 (2022)
Through experiments and theoretical analysis, we investigated the similarity of gas discharge in low-pressure Argon gaps between two plane-parallel electrodes. We found that the breakdown voltages depended not only on gap length and the product of ga
Externí odkaz:
https://doaj.org/article/0689fff179ff4e51b63bc4b88b07e751
Publikováno v:
Science Journal of University of Zakho, Vol 7, Iss 4 (2019)
This paper investigates the characteristics some of argon plasma parameters of glow discharge under axial magnetic field. The DC power supply of range (0-6000) V is used as a breakdown voltage to obtain the discharge of argon gas. The discharge volta
Externí odkaz:
https://doaj.org/article/1b122b1c63f74c238159bd47468caedf
Publikováno v:
Fiabilitate şi Durabilitate, Vol 1-Suppl, Iss 1, Pp 10-21 (2016)
The problem of physical and mathematical prediction of rational pressure during sparkplasma sintering of zirconia nanopowder is being considered. The physical aspects of this problem are defined, and it is presented an approach to the calculation o
Externí odkaz:
https://doaj.org/article/6ac209b38e374f24a0c436e46e08b08b
Publikováno v:
Science Journal of University of Zakho, Vol 7, Iss 4 (2019)
This paper investigates the characteristics some of argon plasma parameters of glow discharge under axial magnetic field. The DC power supply of range (0-6000) V is used as a breakdown voltage to obtain the discharge of argon gas. The discharge volta
Externí odkaz:
https://explore.openaire.eu/search/publication?articleId=doi_dedup___::e620cd8bfeffea5be20d74caa8e4e018
https://doi.org/10.25271/sjuoz.2019.7.4.628
https://doi.org/10.25271/sjuoz.2019.7.4.628
Publikováno v:
International Journal of Electrical and Computer Engineering (IJECE). 12:1265
A reticle is a stencil used in lithography process for forming integrated circuit (IC) on silicon substrate. It consists of a thin (100 nm) coating of masking metallic patterned (features) with critical dimension (CD) of nanometers on a thicker quart
Externí odkaz:
https://explore.openaire.eu/search/publication?articleId=doi_dedup___::7346ad9f71bd42fc5856ae7eba758010
https://doi.org/10.11591/ijece.v12i2.pp1265-1273
https://doi.org/10.11591/ijece.v12i2.pp1265-1273
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.