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Incorporación de metal en capas de carbono amorfo hidrogenado mediante deposición química en fase vapor asistida por plasma de resonancia ciclotrónica de electrones = Metal incorporation in hydrogenated amorphus carbon films deposited by biased electron cyclotron resonance chemical vapour deposition

Autor: Pardo Pérez, Ainhoa

Publikováno v: Biblos-e Archivo. Repositorio Institucional de la UAM
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Tesis doctoral inédita de la Universidad Autónoma de Madrid. Facultad de Ciencias, Departamento de Física Aplicada. Fecha de lectura: 21-06-2012

Externí odkaz: https://explore.openaire.eu/search/publication?articleId=dedup_wf_001::9bda08e164bc18909acc24f4b6f9ff39
https://hdl.handle.net/10486/12299

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