Zobrazeno 1 - 10
of 131
pro vyhledávání: '"P.N.K. Deenapanray"'
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
Publikováno v:
Surface and Interface Analysis. 26:748-757
Samples of epitaxially-grown Si(111) doped to 5 × 10 15 P cm -3 were chemically cleaned using various procedures. The surface morphologies and remaining particulate contamination of the samples were investigated using atomic force microscopy (AFM) a
Publikováno v:
Nuclear Instruments and Methods in Physics Research Section B: Beam Interactions with Materials and Atoms. :1322-1326
It is generally assumed that ion beams (IBs) used during channelling experiments create little damage when incident along a direction of low crystallographic index of a crystal lattice. We have employed deep level transient spectroscopy (DLTS) to cha
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
Publikováno v:
Nuclear Instruments and Methods in Physics Research Section B: Beam Interactions with Materials and Atoms. :112-114
It is commonly assumed that ion beams used for channelling experiments create little damage when moving along a principal axial channel of a crystal. We have employed deep level transient spectroscopy (DLTS) to characterise the defects induced by 300
Autor:
Jeffrey C. McCallum, G. de M. Azevedo, P.N.K. Deenapanray, Matthew D. H. Lay, Chennupati Jagadish
Publikováno v:
2002 Conference on Optoelectronic and Microelectronic Materials and Devices. COMMAD 2002. Proceedings (Cat. No.02EX601).
The effect of implantation angle on the profile of vacancy-related defects, represented by the divacancy and vacancy-phosphorus centres, in n-type Cz-Si implanted with 450 keV P or 600 keV Si ions to a dose of 2 /spl times/ 10/sup -9/ ions/spl middot
Publikováno v:
1999 IEEE LEOS Annual Meeting Conference Proceedings. LEOS'99. 12th Annual Meeting. IEEE Lasers and Electro-Optics Society 1999 Annual Meeting (Cat. No.99CH37009).
Precise tailoring of the electrical and optical properties of devices is an important issue in the development of optoelectronic integrated circuits. As such, post-growth tailoring techniques of the bandgap such as intermixing/interdiffusion becomes