Zobrazeno 1 - 2
of 2
pro vyhledávání: '"P.E. Janardhanan"'
Publikováno v:
Thin Solid Films. 516:8712-8716
Inductively coupled plasma etching of GaSb using BCl 3 /SiCl 4 etch chemistry has been investigated. The etch rates were studied as a function of bias power, inductively coupled plasma source power, plasma chemistry and chamber pressure. The etched s
Externí odkaz:
https://explore.openaire.eu/search/publication?articleId=doi_________::8df3b7ca7313798361a32d5540c306cb
https://doi.org/10.1016/j.tsf.2008.05.029
https://doi.org/10.1016/j.tsf.2008.05.029
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.