Zobrazeno 1 - 7
of 7
pro vyhledávání: '"P.C. Silva Neto"'
Autor:
F.S. Oliveira, I.L. Dias, P.L.L. Araújo, D.A. Ramirez, P.C. Silva Neto, R. Hübler, F.M.T. Mendes, I.Z. Damasceno, E.K. Tentardini
Publikováno v:
Materials Research, Vol 26 (2023)
Zr-Si-N thin films were co-deposited by reactive magnetron sputtering to verify the influence of silicon content (1.6 and 8.0 at. % Si) and substrate temperature (room temperature and heated to 973 K) on structure, morphology, chemical bonds and hard
Externí odkaz:
https://doaj.org/article/1428329ef69943bd8ea9b7438fb55b30
Publikováno v:
Surface Engineering. 38:761-768
Autor:
J.C.V. Dos Santos, J.Y.E. Santos, P.C. Silva Neto, Fernanda M. Mendes, Daniel Angel Ramirez, F.L. Serafini, A.R. Terto, María Cristina Moré Farias, E.K. Tentardini
Publikováno v:
Surface and Coatings Technology. 415:127097
Pure MoSx and MoSx + Hf thin films were deposited by magnetron sputtering and characterized by RBS, GAXRD, XPS, high temperature oxidation tests and tribological tests. Hf content was set at 12 at.% by RBS and GAXRD analyses revealed a complete amorp
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.