MICROENGINEERING - THE NEW APPLICATION OF CHEMICAL VAPOR DEPOSITION

Autor: P.B. Grabiec, J.M. Lysko

Publikováno v: Journal de Physique IV Proceedings
Journal de Physique IV Proceedings, EDP Sciences, 1991, 02 (C2), pp.C2-897-C2-901. ⟨10.1051/jp4:19912107⟩

Techniques of Chemical Vapour Deposition, developed primarily for VLSI Circuits fabrication, enriched by the experience of CVD methods utilized in the field of hard wear resistant coatings and other mechanical related application, are the versatile t

Externí odkaz: https://explore.openaire.eu/search/publication?articleId=doi_dedup___::1ef5c2aae43d27a278ac7e3860b48ec7
https://doi.org/10.1051/jp4:19912107

Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.

Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.

Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.

Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.