Zobrazeno 1 - 10
of 27
pro vyhledávání: '"P. Taechakumput"'
Extrinsic and Intrinsic Frequency Dispersion of High-k Materials in Capacitance-Voltage Measurements
Publikováno v:
Materials, Vol 5, Iss 6, Pp 1005-1032 (2012)
In capacitance-voltage (C-V) measurements, frequency dispersion in high-k dielectrics is often observed. The frequency dependence of the dielectric constant (k-value), that is the intrinsic frequency dispersion, could not be assessed before suppressi
Externí odkaz:
https://explore.openaire.eu/search/publication?articleId=doajarticles::2e54d928d02b76619795f8db98469bbf
http://www.mdpi.com/1996-1944/5/6/1005
http://www.mdpi.com/1996-1944/5/6/1005
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
Autor:
Jeffrey M. Gaskell, Szymon Przybylak, Anthony C. Jones, Helen C. Aspinall, Paul R. Chalker, Kate Black, Richard J. Potter, Pouvanart Taechakumput, Stephen Taylor
Publikováno v:
Chemistry of Materials; Sep2007, Vol. 19 Issue 19, p4796-4803, 8p
Autor:
Gaskell, J. M., Jones, A. C., Chalker, P. R., Werner, M., Aspinall, H. C., Taylor, S., Taechakumput, P., Heys, P. N.
Publikováno v:
Chemical Vapor Deposition; December 2007, Vol. 13 Issue: 12 p684-690, 7p