Výsledky vyhledávání - "Oxyde bicouche"

Dissertation/ Thesis

Etude à l'échelle nanométrique par sonde locale de la fiabilité et de la dégradation de films minces d'oxyde pour applications MOS et MIM

Autor: Foissac, Romain

L'intégration de diélectriques High-k dans les empilements de grille des dispositifs MOS a fait naître de nouvelles interrogations concernant la fiabilité des futurs nœuds technologiques. La miniaturisation constante des dispositifs conduisant �

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Study of the reliability and degradation of ultra-thin oxide layers at nanometric scale by scanning probe microscopy for MOS and MIM applications

Autor: Foissac, Romain

Publikováno v: Micro et nanotechnologies/Microélectronique. Université Grenoble Alpes, 2015. Français. ⟨NNT : 2015GREAT047⟩

Integration of High-k dielectrics in gate oxides of MOS raised new issues concerning the reliability of futur technology nodes. The constant miniaturisation of devices leads to thinner gate oxides, making their electrical caracterisation more complex

Externí odkaz: https://explore.openaire.eu/search/publication?articleId=dedup_wf_001::527287d5107b98a0005232da7f9e7433
https://theses.hal.science/tel-01218188

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Dissertation/ Thesis

Etude à l'échelle nanométrique par sonde locale de la fiabilité de diélectriques minces pour l'intégration dans les composants microélectroniques du futur

Autor: Delcroix, Pierre

Afin de pouvoir continuer la miniaturisation de la brique de base des circuits électroniques, le transistor MOS, l’introduction d’oxyde de grille à haute permittivité était inévitable. Un empilement de type high-k/grille métal en remplaceme

Externí odkaz: http://www.theses.fr/2012GRENT080/document

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Study at nanoscale, using scanning probe microscopy, of thin dielectric fialibilty for futur integrated devices in microelectronic field

Autor: Delcroix, Pierre

Publikováno v: Autre. Université de Grenoble, 2012. Français. ⟨NNT : 2012GRENT080⟩

In order to continue the scaling of the MOS transistor the replacement of the gate oxide layer by a high K/Metal gate was mandatory. From a reliability point of view, the introduction of these new materials could cause a lifetime reduction. To test t

Externí odkaz: https://explore.openaire.eu/search/publication?articleId=dedup_wf_001::b335ec5ba85af1aa348929702e1e7140
https://tel.archives-ouvertes.fr/tel-00822926/file/25471_DELCROIX_2012_archivage.pdf

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