Photochemical conversion of tin-oxo cage compounds studied using hard x-ray photoelectron spectroscopy

Autor: Zhang, Y., Haitjema, J., Liu, X., Johansson, F., Lindblad, A., Castellanos Ortega, S., Ottosson, N., Brouwer, A.M., Hohle, C.K.

Publikováno v: Journal of Micro/Nanolithography, MEMS and MOEMS, 16(2):023510. SPIE
Advances in Patterning Materials and Processes XXXIV: 27 February–2 March 2017, San Jose, California, United States
Advances in Patterning Materials and Processes XXXIV

Several metal-containing molecular inorganic materials are currently considered as photoresists for extreme ultraviolet lithography (EUVL). This is primarily due to their high EUV absorption cross section and small building block size, properties whi

Externí odkaz: https://explore.openaire.eu/search/publication?articleId=doi_dedup___::8a8972d5b1203d12536611d22729a587
http://urn.kb.se/resolve?urn=urn:nbn:se:uu:diva-327125

Correction to “Orientation of Methylguanidinium Ions at the Water–Air Interface”

Autor: Strazdaite, S., Versluis, J., Ottosson, N., Bakker, Huib J.

Publikováno v: The Journal of Physical Chemistry - Part C; 20240101, Issue: Preprints

Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.

Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.

Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.