Zobrazeno 1 - 10
of 105
pro vyhledávání: '"Osinskii, A."'
Autor:
V. I. Osinskii, N. M. Liahova, A. V. Osinskii, Marat Serhiiovych Onachenko, Andrii Volodymyrovych Diagilev, I. V. Masol
Publikováno v:
Electronics and Communications. 21:10-21
Рассмотрены структурные и технологические аспекты поляризации многокомпонентных твердых растворов соединений А 3 В 5 , в частности, три
Autor:
Osinskii, V. I., Masol, I. V., Liahova, N. M., Osinskii, A. V., Diagilev, Andrii Volodymyrovych, Onachenko, Marat S.
Publikováno v:
Електроніка та зв'язок : науково-технічний журнал, Т. 21, № 6(95)
Розглянуто структурні та технологічні аспекти поляризації багатокомпонентних твердих розчинів сполук A³B⁵, зокрема, тринітрідів галію
Externí odkaz:
https://explore.openaire.eu/search/publication?articleId=od______2635::be1f31ddb1bc355c07b11b79e1b41f94
https://ela.kpi.ua/handle/123456789/20271
https://ela.kpi.ua/handle/123456789/20271
Autor:
N. О. Suhoviy, E. V. Semenovskaya, N. М. Lyahova, V. I. Osinskii, E. M. Faleeva, V. I. Timofeyev
Publikováno v:
Electronics and Communications. 19:32-36
Publikováno v:
Sociological Research. May/Jun2004, Vol. 43 Issue 3, p54-66. 13p.
Autor:
Osinskii, V. I., Timofeyev, V. I., Semenovskaya, E. V., Lyahova, N. М., Suhoviy, N. О., Faleeva, E. M.
Publikováno v:
Electronics and Communications; Том 19, № 5 (2014); 32-36
Электроника и Связь; Том 19, № 5 (2014); 32-36
Електроніка та Зв'язок; Том 19, № 5 (2014); 32-36
Электроника и Связь; Том 19, № 5 (2014); 32-36
Електроніка та Зв'язок; Том 19, № 5 (2014); 32-36
The purpose of paper is to find the optimal parameters for decreasing dislocations in templet nanostructures. The estimation method of dislocation-free relief germination of templet nanostructures is developed. The influence of templet size on the di
Autor:
Ivan I. Osinskii
Publikováno v:
Eurasian paradigm of Russia: values, ideas and experience.
Publikováno v:
Sociological Research. 43:54-66
(2004). The Homeless : The Social Lower Depths of Society. Sociological Research: Vol. 43, No. 3, pp. 54-66.
Publikováno v:
Journal of Crystal Growth. :360-364
The kinetics of semiconductor nanocrystal formation and growth as a result of solid solution phase decomposition in semiconductor-doped thin silica films fabricated by a co-sputtering technique was investigated. Two regimes of decomposition, attribut
Autor:
A. Ekimov, M. Gandais, M. Vatnik, Y.B. Wang, I. Kudriavtsev, A. Osinskii, S. Gurevich, A. Merkulov, O. Lublinskaya
Publikováno v:
Journal of Crystal Growth. 151:38-45
Ion implantation technique has been used for the preparation of semiconductor nanocrystals in SiO2 films deposited on semiconductor and quartz substrates. The structural properties of the films have been investigated by using low temperature optical
Autor:
V. P. Osinskii
Publikováno v:
Chemical and Petroleum Engineering. 30:468-474