Zobrazeno 1 - 1 of 1 pro vyhledávání: '"Ordonio, Chris"'
1
Conference
RET application in 45-nm node and 32-nm node contact hole dry ArF lithography process development.
Autor: Miao, Xiangqun, Xu, Xumou, Chen, Yongmei, Ordonio, Chris, Bencher, Chris, Ngai, Chris
Publikováno v: Proceedings of SPIE; Nov2007 Part 2, Issue 1, p65201F-65201F-9, 9p
Zobrazit plný text záznamu

Vyhledávací nástroje:

Upřesnit hledání

Omezení vyhledávání
Plný text Recenzováno Digitální knihovna AV ČR
Zdroje