Zobrazeno 1 - 10 of 17 pro vyhledávání: '"Oostra, D. J."'
1
Akademický článek
Mechanisms of sputtering of Si in a CI2 environment by ions with energies down to 75 eV.
Autor: Oostra, D. J., Haring, A., van Ingen, R. P., de Vries, A. E.
Publikováno v: Journal of Applied Physics; 7/1/1988, Vol. 64 Issue 1, p315, 8p
Zobrazit plný text záznamu
2
Akademický článek
Laser-induced etching of Si with chlorine.
Autor: Baller, T., Oostra, D. J., de Vries, A. E., van Veen, G. N. A.
Publikováno v: Journal of Applied Physics; 10/1/1986, Vol. 60 Issue 7, p2321, 6p
Zobrazit plný text záznamu
3
Akademický článek
β-FeSi2 in (111)Si and in (001) Si formed by ion-beam synthesis.
Autor: Oostra, D. J., Bulle-Lieuwma, C. W. T., Vandenhoudt, D. E. W., Felten, F., Jans, J. C.
Publikováno v: Journal of Applied Physics; 10/1/1993, Vol. 74 Issue 7, p4347, 7p, 2 Black and White Photographs, 1 Chart, 7 Graphs
Zobrazit plný text záznamu
4
Akademický článek
Transition metal silicides in silicon technology.
Autor: Reader, A H, Ommen, A H van, Weijs, P J W, Wolters, R A M, Oostra, D J
Publikováno v: Reports on Progress in Physics; 1993, Vol. 56 Issue 11, p1397-1467, 71p
Zobrazit plný text záznamu
5
Akademický článek
Can carbon-implanted silicon be applied as wide-bandgap emitter?
Autor: Oostra, D. J., Politiek, J., Bulle-Lieuwma, C. W. T., Vandenhoudt, D. E. W., Zalm, P. C.
Publikováno v: Journal of Materials Research; 07/01/1996, Vol. 11 Issue 7, p1653-1658, 6p
Zobrazit plný text záznamu
6
Akademický článek
Sputtering of SiO2 in a XeF2 and in a Cl2 atmosphere.
Autor: Oostra, D. J., Haring, A., de Vries, A. E.
Publikováno v: Journal of Vacuum Science & Technology: Part B-Microelectronics Processing & Phenomena; 1986, Vol. 4 Issue 6, p1278-1282, 5p
Zobrazit plný text záznamu
7
Akademický článek
Energy distributions from electron-sputtered solid nitrogen.
Autor: Pedrys, R., Oostra, D. J., Haring, A., Devries, A. E., Schou, J.
Publikováno v: Radiation Effects & Defects in Solids; Jul1989, Vol. 109 Issue 1-4, p239-244, 6p
Zobrazit plný text záznamu
8
Akademický článek
Epitaxial CoSi2 formation on Si(001) from an amorphous Co75W25 sputtered layer.
Autor: La Via, F., Reader, A. H., Duchateau, J. P. W. B., Naburgh, E. P., Oostra, D. J., Kinneging, A. J.
Publikováno v: Journal of Vacuum Science & Technology: Part B-Microelectronics & Nanometer Structures; 1992, Vol. 10 Issue 5, p2284-2292, 9p
Zobrazit plný text záznamu
9
Akademický článek
Near threshold sputtering of Si and SiO2 in a Cl2 environment.
Autor: Oostra, D. J., van Ingen, R. P., Haring, A., de Vries, A. E., van Veen, G. N. A.
Publikováno v: Applied Physics Letters; 5/25/1987, Vol. 50 Issue 21, p1506, 3p
Zobrazit plný text záznamu
10
Akademický článek
Ion-assisted etching of silicon by SF6.
Autor: Oostra, D. J., Haring, A., de Vries, A. E., Sanders, F. H. M., Miyake, K.
Publikováno v: Applied Physics Letters; 6/15/1985, Vol. 46 Issue 12, p1166, 3p
Zobrazit plný text záznamu

Vyhledávací nástroje:

Upřesnit hledání

Omezení vyhledávání
Plný text Recenzováno Digitální knihovna AV ČR
Zdroje