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Eine dielektrisch behinderte Oberflächenentladung wurde in der Entfernung von O\(_2\) Spuren aus Koksofengas untersucht, wobei die Reaktion von O\(_2\) in H\(_2\)/N\(_2\) Gemischen als Modellreaktion diente. Das Plasma erzielte eine hohe Aktivität
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https://explore.openaire.eu/search/publication?articleId=doi_dedup___::e23f0c3a7e0d861b6c92f12f6c74022d
