Zobrazeno 1 - 10 of 34 pro vyhledávání: '"Ogryzlo, Elmer A."'
1
Akademický článek
Rate constants for the reaction of H... with defects at the SiO.../Si(111) interface.
Autor: Gheorghita, Ligia, Ogryzlo, Elmer
Publikováno v: Journal of Applied Physics; 6/1/2000, Vol. 87 Issue 11, p7999, 6p, 1 Chart, 7 Graphs
Zobrazit plný text záznamu
2
Akademický článek
Kinetic study of atomic hydrogen etching of GaAs (100).
Autor: Elzey, John W., Meharg, Paul F. A., Ogryzlo, Elmer A.
Publikováno v: Journal of Applied Physics; 3/1/1995, Vol. 77 Issue 5, p2155, 5p, 3 Black and White Photographs, 2 Graphs
Zobrazit plný text záznamu
3
Akademický článek
Rate constants for the etching of intrinsic and doped polycrystalline silicon by bromine atoms.
Autor: Walker, Zane H., Ogryzlo, Elmer A.
Publikováno v: Journal of Applied Physics; 2/15/1991, Vol. 69 Issue 4, p2635, 4p, 1 Diagram, 1 Chart, 1 Graph
Zobrazit plný text záznamu
4
Akademický článek
Doping and crystallographic effects in Cl-atom etching of silicon.
Autor: Ogryzlo, Elmer A., Ibbotson, Dale E., Flamm, Daniel L., Mucha, John A.
Publikováno v: Journal of Applied Physics; 3/15/1990, Vol. 67 Issue 6, p3115, 6p, 1 Diagram, 2 Charts, 5 Graphs
Zobrazit plný text záznamu
5
Akademický článek
The etching of doped polycrystalline silicon by molecular chlorine.
Autor: Ogryzlo, Elmer A., Flamm, Daniel L., Ibbotson, Dale E., Mucha, John A.
Publikováno v: Journal of Applied Physics; 12/1/1988, Vol. 64 Issue 11, p6510, 5p, 1 Diagram, 3 Graphs
Zobrazit plný text záznamu
6
Conference
Passivation of (111) Si/SiO2 Interfacial Defects by Molecular Hydrogen.
Autor: Gheorghita, Ligia, Ogryzlo, Elmer
Publikováno v: MRS Online Proceedings Library; Dec1999, Vol. 561 Issue 1, p271-274, 4p
Zobrazit plný text záznamu
7
Conference
Kinetics of the Interaction of Atomic Species With (100) Gallium Arsenide Surfaces.
Autor: Gheorghita, Ligia, Ogryzlo, Elmer
Publikováno v: MRS Online Proceedings Library; 1999, Vol. 573 Issue 1, p287-292, 6p
Zobrazit plný text záznamu
8
Akademický článek
Quenching of by O(3P), O2(a1Δg), and other gases.
Autor: Kenner, Rex D., Ogryzlo, Elmer A.
Publikováno v: Canadian Journal of Chemistry; 1983, Vol. 61 Issue 5, p921-926, 6p
Zobrazit plný text záznamu
9
Akademický článek
Rate constants for the etching of gallium arsenide by molecular iodine.
Autor: Wong, Kin-Chung, Ogryzlo, Elmer A.
Publikováno v: Journal of Vacuum Science & Technology: Part B-Microelectronics & Nanometer Structures; 1992, Vol. 10 Issue 2, p668-674, 7p
Zobrazit plný text záznamu
10
Akademický článek
Rate constants for the etching of gallium arsenide by atomic chlorine.
Autor: Hat, Jae, Ogryzlo, Elmer
Publikováno v: Plasma Chemistry & Plasma Processing; Jun1991, Vol. 11 Issue 2, p311-321, 11p
Zobrazit plný text záznamu

Vyhledávací nástroje:

Upřesnit hledání

Omezení vyhledávání
Plný text Recenzováno Digitální knihovna AV ČR
Zdroje