Zobrazeno 1 - 10
of 65
pro vyhledávání: '"Oda, Hidekazu"'
Autor:
Abo, Satoshi, Masuda, Naoyuki, Wakaya, Fujio, Lohner, Tivadar, Onoda, Shinobu, Makino, Takahiro, Hirao, Toshio, Ohshima, Takeshi, Iwamatsu, Toshiaki, Oda, Hidekazu, Takai, Mikio
Publikováno v:
In Nuclear Inst. and Methods in Physics Research, B 2012 273:262-265
Autor:
Hazama, Masatoshi, Abo, Satoshi, Masuda, Naoyuki, Wakaya, Fujio, Onoda, Shinobu, Makino, Takahiro, Hirao, Toshio, Oshima, Takeshi, Iwamatsu, Toshiaki, Oda, Hidekazu, Takai, Mikio
Publikováno v:
宇宙航空研究開発機構特別資料 = JAXA Special Publication. :119-122
Soft error rates (SERs) in partially depleted (PD) silicon-on-insulator (SOI) static random access memories (SRAMs) with a technology node of 90 nm have been investigated by hydrogen, helium, lithium, beryllium, carbon and oxygen ions, accelerated up
Publikováno v:
Electronics & Communications in Japan, Part 2: Electronics. Apr97, Vol. 80 Issue 4, p76-84. 9p.
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
Publikováno v:
2014 20th International Conference on Ion Implantation Technology (IIT); 2014, p1-4, 4p