Zobrazeno 1 - 10
of 365
pro vyhledávání: '"Ober CK"'
Autor:
vandeGrampel, JC, Puyenbroek, R, Meetsma, A, Rousseeuw, BAC, vanderDrift, EWJM, Reichmanis, E, Ober, CK, MacDonald, SA, Iwayanagi, T, Nishikubo, T
Publikováno v:
MICROELECTRONICS TECHNOLOGY, 333-354
STARTPAGE=333;ENDPAGE=354;TITLE=MICROELECTRONICS TECHNOLOGY
STARTPAGE=333;ENDPAGE=354;TITLE=MICROELECTRONICS TECHNOLOGY
New polymers have been developed for application in bilayer resist systems. The products are sensitive for e-beam and DW exposure via chemical amplification and contain both silicon and acid-labile groups. Incorporation of silicon, necessary for a hi
Externí odkaz:
https://explore.openaire.eu/search/publication?articleId=narcis______::3664417f8886c2d400f9369635593a14
https://research.rug.nl/en/publications/fd864a2e-d0e4-43d9-9c3b-26fc0aada10d
https://research.rug.nl/en/publications/fd864a2e-d0e4-43d9-9c3b-26fc0aada10d
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.