Výsledky vyhledávání - "OHTA, Hiroyuk"

Akademický článek

Ultrathin fluorinated silicon nitride gate dielectric films formed by remote plasma enhanced chemical vapor deposition employing NH_3 and SiF_4

Autor: Ohta, Hiroyuki, Hori, Masaru, Goto, Toshio

Externí odkaz: http://hdl.handle.net/2237/7040

Zobrazit plný text záznamu

Akademický článek

Effect of ions and radicals on formation of silicon nitride gate dielectric films using plasma chemical vapor deposition

Autor: Ohta, Hiroyuki, Nagashima, Atsushi, Hori, Masaru, Goto, Toshio

Externí odkaz: http://hdl.handle.net/2237/7099

Zobrazit plný text záznamu

Akademický článek

Formation of silicon nitride gate dielectric films at 300 ℃ employing radical chemical vapor deposition

Autor: Ohta, Hiroyuki, Nagashima, Atsushi, Ito, Masafumi, Hori, Masaru, Goto, Toshio

Externí odkaz: http://hdl.handle.net/2237/7102

Zobrazit plný text záznamu

Short stay program in Indonesia focused on agricultural sustainability and promotion of international collaborative educations

Autor: SAKAGAMI, Nobuo, SATO, Tatsuo, ODANI, Hiromitsu, TAMURA, Makoto, KATO, Tasuku, OHTA, Hiroyuk

Publikováno v: 茨城大学留学生センター紀要. 14:67-75

application/pdf
text/plain
論文(Article)

Externí odkaz: https://explore.openaire.eu/search/publication?articleId=jairo_______::caa8c39bcccce2fb5ba90f3034ad694e
https://rose-ibadai.repo.nii.ac.jp/records/17490

Zobrazit plný text záznamu