Zobrazeno 1 - 10
of 115
pro vyhledávání: '"O.S. Panwar"'
Publikováno v:
Heliyon, Vol 10, Iss 12, Pp e33239- (2024)
Refractory metals that can withstand at high temperatures and harsh conditions are of utmost importance for solar-thermal and energy storage applications. Thin films of TiN have been deposited using cathodic vacuum arc deposition at relatively low te
Externí odkaz:
https://doaj.org/article/5612d6230c844007bc1255c50c15721a
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
Publikováno v:
2021 34th International Vacuum Nanoelectronics Conference (IVNC).
An interesting application of nanocarbon based Field Emitters are in Field Emission Electrical Propulsion System (FEEP) as Field Emitters (FE). The nanocarbon is grown at room temperature to 250°C using indigenously designed and developed cathodic a
Publikováno v:
IEEE/CPMT/SEMI. 28th International Electronics Manufacturing Technology Symposium (Cat. No.03CH37479).
In this paper, we report field emission from nitrogen incorporated and as grown ta-C films grown using a pulsed trigger less unfiltered cathodic arc process. The process offers the advantage of growing ta-C films with relatively less stress, higher t
Conference
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
Conference
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
Publikováno v:
Applied Surface Science. 36:247-256
This paper reports on the crystallisation of low-pressure chemical-vapour deposited (LPCVD) amorphous silicon films for obtaining large grain polycrystalline layers. TEM and SEM studies are presented for samples 0.05–0.2 μm thick deposited in the
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.