Zobrazeno 1 - 2
of 2
pro vyhledávání: '"O. Goiz-Amaro"'
Publikováno v:
CCE
High quality ZnO films were obtained by thermal oxidation of Zn films on the temperature range from 300 to 700 °C. Zn films of 190 nm in thickness were deposited on silicon and glass substrates by the sputtering technique. Thermal oxidation was done
Externí odkaz:
https://explore.openaire.eu/search/publication?articleId=doi_________::d57ac9b4e56e19817867f5c5694c7460
https://doi.org/10.1109/iceee.2010.5608658
https://doi.org/10.1109/iceee.2010.5608658
Conference
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.