Zobrazeno 1 - 10
of 215
pro vyhledávání: '"O Leupold"'
Autor:
B Marx-Glowna, B Grabiger, R Lötzsch, I Uschmann, A T Schmitt, K S Schulze, A Last, T Roth, S Antipov, H-P Schlenvoigt, I Sergueev, O Leupold, R Röhlsberger, G G Paulus
Publikováno v:
New Journal of Physics, Vol 24, Iss 5, p 053051 (2022)
We report on the realization of an extremely sensitive x-ray polarization microscope, allowing to detect tiniest polarization changes of 1 in 100 billion (10 ^−11 ) with a μ m-size focused beam. The extreme degree of polarization purity places the
Externí odkaz:
https://doaj.org/article/d8d1cb2c92854124902056d845db72f8
Autor:
J. Kalt, M. Sternik, I. Sergeev, M. Mikolasek, D. Bessas, J. Göttlicher, B. Krause, T. Vitova, R. Steininger, O. Sikora, P. T. Jochym, O. Leupold, H.-C. Wille, A. I. Chumakov, P. Piekarz, K. Parlinski, T. Baumbach, S. Stankov
Publikováno v:
Physical review / B 106(20), 205411 (2022). doi:10.1103/PhysRevB.106.205411
Physical review / B 106(20), 205411 (2022). doi:10.1103/PhysRevB.106.205411
Here we present a combined experimental and ab initio lattice dynamics study of the semiconducting β phase of FeSi$_2$. A polycrystalline $β$− FeSi$_2$ film was prep
Here we present a combined experimental and ab initio lattice dynamics study of the semiconducting β phase of FeSi$_2$. A polycrystalline $β$− FeSi$_2$ film was prep
Externí odkaz:
https://explore.openaire.eu/search/publication?articleId=doi_dedup___::0b2234a283544e0cdc290375f4dc4159
https://doi.org/10.1103/physrevb.106.205411
https://doi.org/10.1103/physrevb.106.205411
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
Publikováno v:
Applied surface science 597, 153611 (2022). doi:10.1016/j.apsusc.2022.153611
Applied surface science 597, 153611 (2022). doi:10.1016/j.apsusc.2022.153611
We studied diffusion process during the growth of Fe$_{1−x}$C$_x$ (0≤x≤0.50) thin films at 300 K. The broadening of an introduced 57Fe1−xCx thin layer obtained
We studied diffusion process during the growth of Fe$_{1−x}$C$_x$ (0≤x≤0.50) thin films at 300 K. The broadening of an introduced 57Fe1−xCx thin layer obtained
Externí odkaz:
https://explore.openaire.eu/search/publication?articleId=doi_dedup___::e4c09a3cbbb92d9c567eff1061bb75d9
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.