Zobrazeno 1 - 4
of 4
pro vyhledávání: '"Nyabero, S. L."'
Autor:
Nyabero, S. L., van de Kruijs, R. W. E., Yakshin, A. E., Zoethout, E., von Blanckenhagen, G., Bosgra, J., Loch, R. A., Bijkerk, F.
Publikováno v:
Journal of Applied Physics; Apr2013, Vol. 113 Issue 14, p144310, 6p, 1 Black and White Photograph, 1 Chart, 7 Graphs
Publikováno v:
Journal of Applied Physics; Sep2012, Vol. 112 Issue 5, p054317, 5p
Autor:
Igor Alexandrovich Makhotkin, Zoethout, E., Nyabero, S. L., Viacheslav Medvedev, Robbert van de Kruijs, Eric Louis, Yakunin, A. M., Banine, V., Muellender, S., Frederik Bijkerk
Publikováno v:
ISSUE=14;TITLE=14th ASML Technology Conference 2013
University of Twente Research Information (Pure Portal)
University of Twente Research Information (Pure Portal)
6.7 nm — one of the possible candidate for next generation lithography optics needed LaN/B one of the most promising material combinations: à La and B show highest optical contrast for 6.7 nm wavelength à Nitridation of La increases optical contr
Externí odkaz:
https://explore.openaire.eu/search/publication?articleId=dedup_wf_001::5300531000e4351c34a105371ed4c531
https://research.utwente.nl/en/publications/multilayer-development-for-the-generation-beyond-euv-6x-nm(1971bd40-90d0-4d61-a20d-d16d1f6a4682).html
https://research.utwente.nl/en/publications/multilayer-development-for-the-generation-beyond-euv-6x-nm(1971bd40-90d0-4d61-a20d-d16d1f6a4682).html
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.