Výsledky vyhledávání - "Nyabero, S. L."

Akademický článek

Interlayer growth in Mo/B4C multilayered structures upon thermal annealing.

Autor: Nyabero, S. L., van de Kruijs, R. W. E., Yakshin, A. E., Zoethout, E., von Blanckenhagen, G., Bosgra, J., Loch, R. A., Bijkerk, F.

Publikováno v: Journal of Applied Physics; Apr2013, Vol. 113 Issue 14, p144310, 6p, 1 Black and White Photograph, 1 Chart, 7 Graphs

Zobrazit plný text záznamu

Akademický článek

Thermally induced interface chemistry in Mo/B4C/Si/B4C multilayered films.

Autor: Nyabero, S. L., van de Kruijs, R. W. E., Yakshin, A. E., Zoethout, E., Bijkerk, F.

Publikováno v: Journal of Applied Physics; Sep2012, Vol. 112 Issue 5, p054317, 5p

Zobrazit plný text záznamu

Multilayer development for the generation beyond EUV: 6.x nm

Autor: Igor Alexandrovich Makhotkin, Zoethout, E., Nyabero, S. L., Viacheslav Medvedev, Robbert van de Kruijs, Eric Louis, Yakunin, A. M., Banine, V., Muellender, S., Frederik Bijkerk

Publikováno v: ISSUE=14;TITLE=14th ASML Technology Conference 2013
University of Twente Research Information (Pure Portal)

6.7 nm — one of the possible candidate for next generation lithography optics needed LaN/B one of the most promising material combinations: à La and B show highest optical contrast for 6.7 nm wavelength à Nitridation of La increases optical contr

Externí odkaz: https://explore.openaire.eu/search/publication?articleId=dedup_wf_001::5300531000e4351c34a105371ed4c531
https://research.utwente.nl/en/publications/multilayer-development-for-the-generation-beyond-euv-6x-nm(1971bd40-90d0-4d61-a20d-d16d1f6a4682).html

Zobrazit plný text záznamu

Akademický článek

Enhanced thermal stability of extreme ultraviolet multilayers by balancing diffusion-induced structural changes.

Autor: Nyabero, S. L., van de Kruijs, R. W. E., Yakshin, A. E., Bijkerk, F.

Publikováno v: Applied Physics Letters; 8/26/2013, Vol. 103 Issue 9, p093105-093105-3, 1p, 1 Diagram, 4 Graphs

Zobrazit plný text záznamu

Vyhledávací nástroje:

Upřesnit hledání