Zobrazeno 1 - 5
of 5
pro vyhledávání: '"Notake, Akira"'
Autor:
Harashima, Yosuke, Koga, Hiroaki, Ni, Zeyuan, Yonehara, Takehiro, Katouda, Michio, Notake, Akira, Matsui, Hidefumi, Moriya, Tsuyoshi, Si, Mrinal Kanti, Hasunuma, Ryu, Uedono, Akira, Shigeta, Yasuteru
The structural stabilities of the monoclinic and tetragonal phases of Si-doped HfO$_{2}$ at finite temperatures were analyzed using a computational scheme to assess the effects of impurity doping. The finite temperature effects considered in this wor
Externí odkaz:
http://arxiv.org/abs/2303.14891
Autor:
Uedono, Akira, Takahashi, Naomichi, Hasunuma, Ryu, Harashima, Yosuke, Shigeta, Yasuteru, Ni, Zeyuan, Matsui, Hidefumi, Notake, Akira, Kubo, Atsushi, Moriya, Tsuyoshi, Michishio, Koji, Oshima, Nagayasu, Ishibashi, Shoji
Publikováno v:
In Thin Solid Films 30 November 2022 762
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
Autor:
Harashima, Yosuke, Koga, Hiroaki, Ni, Zeyuan, Yonehara, Takehiro, Katouda, Michio, Notake, Akira, Matsui, Hidefumi, Moriya, Tsuyoshi, Si, Mrinal Kanti, Hasunuma, Ryu, Uedono, Akira, Shigeta, Yasuteru
Publikováno v:
IEEE Transactions on Semiconductor Manufacturing; Nov2023, Vol. 36 Issue 4, p543-546, 4p
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.