Zobrazeno 1 - 8
of 8
pro vyhledávání: '"Noriko Makiishi"'
Publikováno v:
Surface and Interface Analysis. 46:888-891
Externí odkaz:
https://explore.openaire.eu/search/publication?articleId=doi_________::fa84ed7a1fe4ef8fb4b6f07a6f3946d3
https://doi.org/10.1002/sia.5435
https://doi.org/10.1002/sia.5435
Autor:
Kaoru Sato, Takumi Ujiro, Shin Ishikawa, Etsuo Hamada, Yamada Katsumi, Kunio Fukuda, Tomohiro Ishii, Masayasu Nagoshi, Noriko Makiishi
Publikováno v:
Corrosion Science. 52:3851-3854
A cross-section of a native passive film on a commercial type 304 stainless steel was directly imaged and characterized using an aberration corrected STEM-EDS in combination with FIB sectioning. The technique demonstrated an enrichment of Cr in the l
Externí odkaz:
https://explore.openaire.eu/search/publication?articleId=doi_________::94fd945f1b66b190cc0be8e8691f7858
https://doi.org/10.1016/j.corsci.2010.08.025
https://doi.org/10.1016/j.corsci.2010.08.025
Publikováno v:
Surface and Interface Analysis. 40:738-740
Total reflection (TR) XPS has been applied to a mirror-polished iron sheet using incident X-ray with the energy range of 1800-3600 eV from synchrotron radiation. XPS spectra measured under the TR conditions show remarkably low background intensity an
Externí odkaz:
https://explore.openaire.eu/search/publication?articleId=doi_________::4a6c55c6a1a71d378d71ea29bb93a5f1
https://doi.org/10.1002/sia.2728
https://doi.org/10.1002/sia.2728
Publikováno v:
Tetsu-to-Hagane. 85:149-154
Externí odkaz:
https://explore.openaire.eu/search/publication?articleId=doi_________::6006c93b81a67af9c09ba8255675dffb
https://doi.org/10.2355/tetsutohagane1955.85.2_149
https://doi.org/10.2355/tetsutohagane1955.85.2_149
Publikováno v:
Tetsu-to-Hagane. 79:1003-1010
Externí odkaz:
https://explore.openaire.eu/search/publication?articleId=doi_________::e9027f9282c719191e194baf45a642f1
https://doi.org/10.2355/tetsutohagane1955.79.8_1003
https://doi.org/10.2355/tetsutohagane1955.79.8_1003
Publikováno v:
BUNSEKI KAGAKU. 40:T195-T202
ウエハ上のタングステンシリサイド(WSix)膜とボロホスホシリケイト(BPSG)膜についてX線マイクロアナライザー(EPMA)による組成定量法を検討した.基板シリコンの影響を防止するため電子の
Externí odkaz:
https://explore.openaire.eu/search/publication?articleId=doi_________::5b57801be4bd5660f6050a1c938d15c5
https://doi.org/10.2116/bunsekikagaku.40.11_t195
https://doi.org/10.2116/bunsekikagaku.40.11_t195
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.