Knihovna AV ČR, v. v. i.
Odhlásit
Přihlášení
Jazyk
English
Čeština
Instituce
Knihovna AV ČR
Souborný katalog AV ČR
Archeologický ústav Brno
Archeologický ústav Praha
Astronomický ústav
Biofyzikální ústav
Botanický ústav
Etnologický ústav
Filosofický ústav
Fyzikální ústav
Fyziologický ústav
Geofyzikální ústav
Geologický ústav
Historický ústav
Masarykův ústav
Matematický ústav
Orientální ústav
Psychologický ústav
Slovanský ústav
Sociologický ústav
Ústav analytické chemie
Ústav anorganické chemie
Ústav pro českou literaturu
Ústav dějin umění
Ústav fyziky atmosféry
Ústav fotoniky a elektroniky
Ústav fyzikální chemie J. H.
Ústav fyziky materiálů
Ústav geoniky
Ústav pro hydrodynamiku
Ústav chemických procesů
Ústav informatiky
Ústav pro jazyk český
Ústav jaderné fyziky
Ústav makromolekulární chemie
Ústav pro soudobé dějiny
Ústav přístrojové techniky
Ústav státu a práva
Ústav struktury a mechaniky hornin
Ústav teoretické a aplikované mechaniky
Ústav teorie informace a automatizace
Ústav výzkumu globální změny
Knihovna bude uzavřena od 23. 12. 2024 do 3. 1. 2025.
×
Všechna pole
Název
Autor
Hledat
Pokročilé vyhledávání
Zahrnout EIZ
Zachovat současné nastavení filtrů
EXPAND:"fulltext"
Domovská stránka
Vyhledávání: "Nolan, Lucy M."
Navrhnout nákup titulu
Zobrazeno
1
-
3
of
3
pro vyhledávání:
'"Nolan, Lucy M."'
Řazení
od nejnovějšího
Podle data vzestupně
podle relevance
Vybrat vše | Vybrané výsledky:
Poslat e-mailem
Exportovat
Vytisknout
Vybrat výsledek číslo 1
1
Akademický článek
Chemically enhanced synergistic wear: A copper chemical mechanical polishing case study
Autor:
Nolan, Lucy M.
,
Cadien, Kenneth C.
Publikováno v: In
Wear
30 September 2013 307(1-2):155-163
Zobrazit plný text záznamu
Vybrat výsledek číslo 2
2
Achieving High Rates and High Uniformity in Copper Chemical Mechanical Polishing
Autor:
Nolan, Lucy M
Externí odkaz:
https://explore.openaire.eu/search/publication?articleId=doi_________::5ab2129b10369265d3820ab424a78994
Zobrazit plný text záznamu
Vybrat výsledek číslo 3
3
Dissertation/ Thesis
Achieving High Rates and High Uniformity in Copper Chemical Mechanical Polishing
Autor:
Nolan, Lucy M
Zobrazit plný text záznamu
Vybrat vše | Vybrané výsledky:
Poslat e-mailem
Exportovat
Vytisknout
Vyhledávací nástroje:
RSS
Poslat e-mailem
Upřesnit hledání
Omezení vyhledávání
Plný text
Recenzováno
Digitální knihovna AV ČR
Zdroje
Pouze tištěné dokumenty
Zahrnout EIZ
Typ dokumentu
3
Akademické články
1
Dissertations
Předmět
3
chemical mechanical polishing
3
copper
2
corrosion-wear
2
electrochemistry
2
nanofabrication
2
synergy
1
benzotriazole
1
chemical mechanical planarization
1
cmp
1
corrosion
1
glycine
1
hydrogen-peroxide
1
material-removal
1
mechanical abrasion
1
mechanical properties of metals
1
mechanical wear
1
metal pickling
1
model
1
oxidation
1
planarization
1
slurry
Vydavatel
2
elsevier b.v.
1
elsevier science sa
1
university of alberta
1
university of alberta libraries
Zdroj
1
Science Citation Index Expanded
1
ScienceDirect
1
Networked Digital Library of Theses & Dissertations
1
OpenAIRE
1
Academic Search Ultimate
Rok vydání
Od:
do:
×
načítá se......
