Zobrazeno 1 - 10
of 28
pro vyhledávání: '"Nie, Xutao"'
Autor:
Zhang, Kaichao, Wang, Kai, Wang, Bin, Lv, Chao, Zheng, Jiaxing, Li, Guanqi, Fu, Yu, Xiao, Wenlong, Cai, Qingqing, Nie, Xutao, Shao, Yingfeng, Hou, Huilong, Zhao, Xinqing
Publikováno v:
In Journal of Materials Science & Technology 1 January 2024 168:16-23
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
Researches on formation mechanism of ultra-smooth surface during ion beam sputtering of fused silica
Publikováno v:
In Optik February 2019 179:957-964
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
Autor:
Zhang, Kaichao, Wang, Kai, Wang, Bin, Lv, Chao, Zheng, Jiaxing, Li, Guanqi, Fu, Yu, Xiao, Wenlong, Cai, Qingqing, Nie, Xutao, Shao, Yingfeng, Hou, Huilong, Zhao, Xinqing
Publikováno v:
In Journal of Materials Science & Technology 10 December 2024 202:269-269
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
Researches on formation mechanism of ultra-smooth surface during ion beam sputtering of fused silica
Publikováno v:
Optik. 179:957-964
Ion beam figuring (IBF) is well identified as a highly deterministic method for the final figuring of nanometer-precision optical surfaces, where the figuring process involves an atomic/molecular material removal mechanism by using ion beam sputterin