Zobrazeno 1 - 10
of 275
pro vyhledávání: '"Neureuther, Andrew R."'
Publikováno v:
Journal of Micro/Nanopatterning Materials and Metrology, vol 20, iss 3
Background: As target feature sizes for EUV lithography shrink, it is becoming ever more important to understand the intricate details of photoresist materials, including the role of the "third dimension"- the dimension perpendicular to the wafer. Wi
Externí odkaz:
https://explore.openaire.eu/search/publication?articleId=od_______325::06acc42102bdaed1c1df40e20fcd70a9
https://escholarship.org/uc/item/5d17b1sr
https://escholarship.org/uc/item/5d17b1sr
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
In response to the difficulties posed by the resolution, line edge roughness, sensitivity (RLS) trade-off to traditional chemically amplified resist (CAR) systems used for extreme ultraviolet lithography, a number of novel resist technologies have be
Externí odkaz:
https://explore.openaire.eu/search/publication?articleId=dedup_wf_001::49c663a72a513209dfa062569bbaf6c7
https://escholarship.org/uc/item/6j3440d5
https://escholarship.org/uc/item/6j3440d5
Publikováno v:
Proceedings of SPIE; February 2021, Vol. 11609 Issue: 1 p116091C-116091C-12, 11493022p
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
Publikováno v:
Proceedings of SPIE; March 2020, Vol. 11323 Issue: 1 p113231C-113231C-10, 11209880p
Publikováno v:
Journal of Applied Physics; Feb1982, Vol. 53 Issue 2, p899-911, 13p
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
Autor:
Neureuther, Andrew R.
Publikováno v:
Proceedings of SPIE; 4/6/2017, Vol. 10320, p1032004-1-1032004-76, 76p, 51 Diagrams, 12 Graphs