Zobrazeno 1 - 10
of 28
pro vyhledávání: '"Nanolithograpy"'
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
Autor:
Yoonsoo Han, Kyung Ho Kim
Publikováno v:
Journal of the Korean institute of surface engineering. 47:362-367
We report the design, fabrication of a Si3N4 probe and calculation of its mechanical properties for DPN(dip pen nanolithography), which consists of dual tips. Concept of dual tip probe is to employ individual tips on probe as either an AFM tip for im
Externí odkaz:
https://explore.openaire.eu/search/publication?articleId=doi_________::ce3f808cf737498c6f5428b57d7f4a38
https://doi.org/10.5695/jkise.2014.47.6.362
https://doi.org/10.5695/jkise.2014.47.6.362
Publikováno v:
MRS Proceedings. 584
A nanocomposite resist system that incorporates sub-nm fullerene molecules ( C60 and/or C70) into a conventional resist material is proposed for nanolithograpy. Fullerene has physically and chemically resistant characteristics, and its incorporation
Externí odkaz:
https://explore.openaire.eu/search/publication?articleId=doi_________::485beb7f66f38bba66bd2f26d65973d2
https://doi.org/10.1557/proc-584-103
https://doi.org/10.1557/proc-584-103
Publikováno v:
MRS Online Proceedings Library; 1999, Vol. 584 Issue 1, p103-114, 12p
Autor:
Weerasinghe, Asanka Thushara
Amplitude modulated atomic force microscopy-assisted electrostatic nanolithogaphy (AM-AFMEN) was used to pattern nanostructures in fluorinated graphene (FG) at the nansocale. Perforated fluorinated graphene is a two-dimensional sp3 carbon sheet in wh
Externí odkaz:
http://rave.ohiolink.edu/etdc/view?acc_num=akron1351564667
Autor:
Dieter Meschede, M. Mützel, K. Ludolph, Egbert Oesterschulze, D. Haubrich, G. Georgiev, B. Viaris de Lesegno, John Weiner, Colm O'Dwyer
We report the results of a study into the quality of functionalized surfaces for nanolithographic imaging. Self-assembled monolayer (SAM) coverage, subsequent post-etch pattern definition and minimum feature size all depend on the quality of the Au s
Externí odkaz:
https://explore.openaire.eu/search/publication?articleId=doi_dedup___::b68b136c6ca234d4a0595c32aa1fedad
https://hdl.handle.net/10468/2825
https://hdl.handle.net/10468/2825
Autor:
RAMIĄCZEK-KRASOWSKA, MARIA1 maria.ramiaczek-krasowska@pwr.wroc.pl, SZYSZKA, ADAM1, PRAŻMOWSKA, JOANNA1, PASZKIEWICZ, REGINA1, TŁACZAŁA, MAREK1
Publikováno v:
Optica Applicata. 2009, Vol. 39 Issue 4, p711-716. 6p. 7 Graphs.
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
Autor:
Mohsen, Ahmed A.1,2, Zahran, Mohamed2, Habib, S. E. D.3, Allam, Nageh K.1 nageh.allam@aucegypt.edu
Publikováno v:
Scientific Reports. 4/21/2020, Vol. 10 Issue 1, p1-12. 12p.
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.