Zobrazeno 1 - 10
of 55
pro vyhledávání: '"Nano-aggregate"'
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
Autor:
Anup Ghosh, Chayan K. De, Tanmay Chatterjee, Ananya Das, Debjit Roy, Tapan Routh, Prasun K. Mandal
Publikováno v:
Chemical Physics Impact, Vol 3, Iss , Pp 100054- (2021)
Excitation wavelength dependent emission maximum (400 - 560 nm) of a room temperature ionic liquid has been investigated employing time-resolved fluorescence anisotropy based rotational dynamical analyses. Employing Stokes-Einstein-Debye relationship
Externí odkaz:
https://doaj.org/article/d031a335369d4368af5f43b7c7a4fb2f
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
Autor:
Yaowei Guo, Jin Liu, Qinglin Tang, Cuicui Li, Yanying Zhang, Yao Wang, Yanxin Wang, Yupeng Bi, Christopher D. Snow, Matt J. Kipper, Laurence A. Belfiore, Jianguo Tang
Publikováno v:
International Journal of Molecular Sciences; Volume 23; Issue 12; Pages: 6597
The clinical use of anticancer drugs necessitates new technologies for their safe, sensitive, and selective detection. In this article, lanthanide (Eu3+ and Tb3+)-loaded γ-cyclodextrin nano-aggregates (ECA and TCA) are reported, which sensitively de
Externí odkaz:
https://explore.openaire.eu/search/publication?articleId=doi_dedup___::98fff45d713bedb3beaa7990213a6800
Autor:
Prasun K. Mandal, Chayan K. De, Debjit Roy, Ananya Das, Anup Ghosh, Tapan Routh, Tanmay Chatterjee
Publikováno v:
Chemical Physics Impact, Vol 3, Iss, Pp 100054-(2021)
Excitation wavelength dependent emission maximum (400 - 560 nm) of a room temperature ionic liquid has been investigated employing time-resolved fluorescence anisotropy based rotational dynamical analyses. Employing Stokes-Einstein-Debye relationship
Externí odkaz:
https://explore.openaire.eu/search/publication?articleId=doi_dedup___::d75b5f7af25d5d6785341c430fed6794
http://www.sciencedirect.com/science/article/pii/S2667022421000438
http://www.sciencedirect.com/science/article/pii/S2667022421000438
Publikováno v:
Journal of Advanced Mechanical Design, Systems, and Manufacturing, Vol 9, Iss 3, Pp JAMDSM0027-JAMDSM0027 (2015)
Colloidal silica slurry has been widely used in mirror finishing of various microelectronic materials, including Si wafer. However, in the last decade, there has been a tendency to replace the polishing slurry with fixed-abrasive pads because of envi
Externí odkaz:
https://doaj.org/article/17e7514921b24c4983e1e3f69c371bc7
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.