Zobrazeno 1 - 10
of 179
pro vyhledávání: '"NESTOR, MARK S."'
Autor:
Nestor, Mark S.1,2 (AUTHOR) nestormd@admcorp.com, Hetzel, John1 (AUTHOR), Awad, Nardin1 (AUTHOR), Bhupalam, Vishnu1 (AUTHOR), Lu, Patrick3 (AUTHOR), Molyneaux, Michael3 (AUTHOR)
Publikováno v:
Journal of Cosmetic Dermatology. Oct2024, Vol. 23 Issue 10, p3133-3143. 11p.
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
Autor:
Nestor, Mark S.1,2,3 (AUTHOR) nestormd@admcorp.com, Han, Haowei1 (AUTHOR), Ceci, Francesca M.1 (AUTHOR), Lawson, Alec1 (AUTHOR), Gade, Anita1 (AUTHOR)
Publikováno v:
Journal of Cosmetic Dermatology. Sep2023, Vol. 22 Issue 9, p2471-2475. 5p.
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
Autor:
Katz, Bruce E.1 (AUTHOR), Nestor, Mark S.2,3,4 (AUTHOR), Nuccitelli, Richard5 (AUTHOR) rnuccitelli@pulsebiosciences.com, Johnston, Lauren Jauregui5 (AUTHOR), Knape, William A.5 (AUTHOR)
Publikováno v:
Journal of Cosmetic Dermatology. May2023, Vol. 22 Issue 5, p1545-1553. 9p.
Autor:
Nestor, Mark S.1,2 (AUTHOR) nestormd@admcorp.com, Lawson, Alec1 (AUTHOR), Fischer, Daniel1 (AUTHOR)
Publikováno v:
PLoS ONE. 3/3/2023, Vol. 17 Issue 3, p1-14. 14p.
Publikováno v:
Dermatological Reviews; Jun2024, Vol. 5 Issue 3, p1-5, 5p
Publikováno v:
In Cosmeceuticals Edition: Fourth Edition. 2025:283-290
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.