Zobrazeno 1 - 3
of 3
pro vyhledávání: '"N. Teomim"'
Autor:
I. Friedler, E. Frishman, Dhananjay Singh Rathore, N. Teomim, J. Chess, B. Watson, Roman Kris, S. Duvdevani Bar, V. Mirovoy, J. Geva, Grigory Klebanov, D. Rogers
Publikováno v:
Metrology, Inspection, and Process Control for Microlithography XXXIV.
CD measurements of advanced 3D-NAND Staircase process require development of new approaches in CD metrology [1]. The current CD SEM Contact Analysis used for 3D-NAND assumes that process control could be provided through a set of geometric parameters
Externí odkaz:
https://explore.openaire.eu/search/publication?articleId=doi_________::e18efdb16f3e6df6dcef88865e3edc01
https://doi.org/10.1117/12.2559399
https://doi.org/10.1117/12.2559399
Conference
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
Conference
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.