Zobrazeno 1 - 10
of 47
pro vyhledávání: '"N. Ramungul"'
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
Publikováno v:
Materials Science Forum. :1415-1418
Autor:
N. Ramungul, Mario Ghezzo, T. Paul Chow, Vishnu K. Khemka, Ahmed Elasser, Jeffery B. Fedison, James W. Kretchmer, Zhongda Li
Publikováno v:
Materials Science Forum. :1367-1370
Autor:
K. Matocha, N. Ramungul, T.P. Chow, Yi Tang, Vishnu K. Khemka, J.B. Fedison, Ronald J. Gutmann
Publikováno v:
Solid-State Electronics. 44:277-301
The present status of the silicon carbide and gallium nitride bipolar power semiconductor devices is reviewed. Several unipolar and bipolar figures of merit have been examined to demonstrate the potential performance gain to be obtained from silicon
Autor:
T.P. Chow, N. Ramungul
Publikováno v:
IEEE Transactions on Electron Devices. 46:493-496
This paper presents an experimental demonstration of a current-controlled negative resistance (CCNR) in the forward characteristics of 6H-SiC P-i-N rectifiers. These forward characteristics indicate that the poor electrical performance of SiC diodes
Publikováno v:
IEEE Transactions on Electron Devices. 46:465-470
The use of beryllium (Be) as an alternate p-type dopant for implanted silicon carbide (SiC) p/sup +/-n junctions is experimentally demonstrated. The implanted layers have been characterized with photoluminescence (PL) as well as secondary ion mass sp
Publikováno v:
Journal of Electronic Materials. 28:167-174
We report the characterization of phosphorus implantation in 4H-SiC. The implanted layers are characterized by analytical techniques (secondary ion mass spectrometry, transmission electron microscopy) as well as electrical and a sheet resistance valu
Publikováno v:
Materials Science Forum. :1049-1052