Zobrazeno 1 - 9
of 9
pro vyhledávání: '"N. Bellafiore"'
Publikováno v:
Microelectronics Journal. 25:495-500
Thin oxide nitridation in N 2 O has been demonstrated to improve the dielectric characteristics in terms of charge to breakdown and trapping under current injection. In this work we compare the results obtained with the RTP and conventional oven nitr
Externí odkaz:
https://explore.openaire.eu/search/publication?articleId=doi_________::e4550449561599737d918a44304e8e79
https://doi.org/10.1016/0026-2692(94)90033-7
https://doi.org/10.1016/0026-2692(94)90033-7
Publikováno v:
Microelectronics Journal. 24:453-458
6–15 nm thick tunnel dielectrics obtained by rapid thermal processing are considered. The growth kinetics of silicon oxidation in O 2 and oxynitridation in N 2 O are reported. Chemical-physical analyses, performed by Auger electron spectrometry, sh
Externí odkaz:
https://explore.openaire.eu/search/publication?articleId=doi_________::db9e0dc38ca8ab01c63fd0e478064b90
https://doi.org/10.1016/0026-2692(93)90052-g
https://doi.org/10.1016/0026-2692(93)90052-g
Publikováno v:
2005 IEEE International Reliability Physics Symposium, 2005. Proceedings. 43rd Annual..
A negative oxide charge located at the split-point is the main cause of threshold voltage window closure in source side injection flash EEPROM cells under 10/sup 5/ write/erase cycles. We show a slow trapping rate and a temperature dependence of the
Externí odkaz:
https://explore.openaire.eu/search/publication?articleId=doi_________::58ef68f2c9f3cb86a1f547711054ff5a
https://doi.org/10.1109/relphy.2005.1493193
https://doi.org/10.1109/relphy.2005.1493193
Publikováno v:
Scopus-Elsevier
Photocurrent measurements can provide an easy method for evaluating surface recombination velocity and for mapping this quantity over a silicon wafer. This method is validated for the characterization of Si-SiO 2 interfaces by comparison with surface
Externí odkaz:
https://explore.openaire.eu/search/publication?articleId=doi_dedup___::ea44289a6a504c38c590e56289452a2a
http://www.scopus.com/inward/record.url?eid=2-s2.0-0005832518&partnerID=MN8TOARS
http://www.scopus.com/inward/record.url?eid=2-s2.0-0005832518&partnerID=MN8TOARS
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
Conference
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
Conference
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.