Zobrazeno 1 - 10 of 12 pro vyhledávání: '"Murad, S. K."'
1
Akademický článek
Can dry-etching systems be designed for low damage ab initio?
Autor: Deng, L. G., Rahman, M., Murad, S. K., Boyd, A., Wilkinson, C. D. W.
Publikováno v: Journal of Vacuum Science & Technology: Part B-Microelectronics & Nanometer Structures; 1998, Vol. 16 Issue 6, p3334-3338, 5p
Zobrazit plný text záznamu
2
Akademický článek
Generic scanned-probe microscope sensors by combined micromachining and electron-beam lithography.
Autor: Zhou, H., Midha, A., Mills, G., Thoms, S., Murad, S. K., Weaver, J. M. R.
Publikováno v: Journal of Vacuum Science & Technology: Part B-Microelectronics & Nanometer Structures; 1998, Vol. 16 Issue 1, p54-58, 5p
Zobrazit plný text záznamu
3
Akademický článek
Effects of O2 addition to SiCl4/SiF4 and the thickness of the capping layer on gate recess etching of GaAs-pseudomorphic high electron mobility transistors.
Autor: Murad, S. K., Cameron, N. I., Beaumont, S. P., Wilkinson, C. D. W.
Publikováno v: Journal of Vacuum Science & Technology: Part B-Microelectronics & Nanometer Structures; 1996, Vol. 14 Issue 6, p3668-3673, 6p
Zobrazit plný text záznamu
4
Akademický článek
Selective reactive ion etching of InGaAs and InP over InAlAs in SiCl4/SiF4/HBr plasmas.
Autor: Murad, S. K., Beaumont, S. P., Holland, M., Wilkinson, C. D. W.
Publikováno v: Journal of Vacuum Science & Technology: Part B-Microelectronics & Nanometer Structures; 1995, Vol. 13 Issue 6, p2344-2349, 6p
Zobrazit plný text záznamu
5
Akademický článek
Very low damage etching of GaAs.
Autor: Murad, S. K., Wilkinson, C. D. W., Wang, P. D., Parkes, W., Sotomayor-Torres, C. M., Cameron, N.
Publikováno v: Journal of Vacuum Science & Technology: Part B-Microelectronics & Nanometer Structures; 1993, Vol. 11 Issue 6, p2237-2243, 7p
Zobrazit plný text záznamu
6
Periodical
Anisotropic pattern transfer of fine resist features to silicon nitride via an intermediate titanium layer
Autor: Midha, A., Murad, S. K., Weaver, J. M. R.
Publikováno v: Microelectronic Engineering; 1997, Vol. 35 Issue: 1 p99-104, 6p
Zobrazit plný text záznamu
7
Periodical
Improving the resistance of PECVD silicon nitride to dry etching using an oxygen plasma
Autor: Hicks, S. E., Murad, S. K., Sturrock, I., Wilkinson, C. D. W.
Publikováno v: Microelectronic Engineering; 1997, Vol. 35 Issue: 1 p41-44, 4p
Zobrazit plný text záznamu
9
Periodical
Method of dry-etching evaluation using quantum dots
Autor: Rahman, M., Murad, S. K., Holland, M. C., Long, A. R., Wilkinson, C. D. W., Williamson, J. G.
Publikováno v: Microelectronic Engineering; 1997, Vol. 35 Issue: 1 p91-94, 4p
Zobrazit plný text záznamu
10
Akademický článek
Artificial dielectric optical structures: A challenge for nanofabrication.
Autor: Giaconia, C., Torrini, R., Murad, S. K., Wilkinson, C. D. W.
Publikováno v: Journal of Vacuum Science & Technology: Part B-Microelectronics & Nanometer Structures; 1998, Vol. 16 Issue 6, p3903-3905, 3p
Zobrazit plný text záznamu

Vyhledávací nástroje:

Upřesnit hledání

Omezení vyhledávání
Plný text Recenzováno Digitální knihovna AV ČR
Zdroje