Zobrazeno 1 - 2
of 2
pro vyhledávání: '"Multiple Patterning Technology"'
Publikováno v:
Alexandria Engineering Journal, Vol 109, Iss , Pp 871-883 (2024)
Since the advanced Integrated Circuit (IC) manufacturing process has reached the 14 nm technology node and beyond, the pattern size of integrated circuits has become much smaller than the theoretical minimum resolution of lithography. In order to fur
Externí odkaz:
https://doaj.org/article/05fafb7bb61549f58c501386d5ac1854
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.