Multiduoplasmatron et multiduopigatron : sources de plasma uniforme pour la formation de faisceaux d'ions multiamperes

Autor: J. Aubert, C. Lejeune, J.P. Grandchamp

Publikováno v: Revue de Physique Appliquée
Revue de Physique Appliquée, Société française de physique / EDP, 1977, 12 (12), pp.1835-1848. ⟨10.1051/rphysap:0197700120120183500⟩

La formation de faisceaux d'ions intenses et peu divergents requiert pour le plasma la présence d'une surface émissive large, dense, quasi-uniforme et stable. Nous proposons deux structures de source capables de satisfaire à ces critères : le pla

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