Zobrazeno 1 - 10 of 33 pro vyhledávání: '"Mu, X. C."'
1
Akademický článek
A study of CClF3/H2 reactive ion etching damage and contamination effects in silicon.
Autor: Mu, X. C., Fonash, S. J., Oehrlein, G. S., Chakravarti, S. N., Parks, C., Keller, J.
Publikováno v: Journal of Applied Physics; 4/15/1986, Vol. 59 Issue 8, p2958, 10p, 4 Charts, 7 Graphs
Zobrazit plný text záznamu
2
Akademický článek
Ar ion beam and CCl4 reactive ion etching: A comparison of etching damage and of damage passivation by hydrogen.
Autor: Mu, X. C., Fonash, S. J., Yang, B. Y., Vedam, K., Rohatgi, A., Rieger, J.
Publikováno v: Journal of Applied Physics; 12/1/1985, Vol. 58 Issue 11, p4282, 10p, 2 Black and White Photographs, 5 Graphs
Zobrazit plný text záznamu
3
Conference
A study of low temperature Pd and Ni silicides formed on dry etched silicon surfaces.
Autor: Mu, X. C., Climent, A., Fonash, S. J.
Publikováno v: AIP Conference Proceedings; Nov1984, Vol. 122 Issue 1, p63-68, 6p
Zobrazit plný text záznamu
4
Akademický článek
A study of contamination and damage on Si surfaces induced by dry etching.
Autor: Moghadam, F.K., Mu, X.-C.
Publikováno v: IEEE Transactions on Electron Devices; 1989, Vol. 36 Issue 9, p1602-1609, 8p
Zobrazit plný text záznamu
5
Akademický článek
Evaluation and control of device damage in high density plasma etching.
Autor: Gadgil, P. K., Mantei, T. D., Mu, X. C.
Publikováno v: Journal of Vacuum Science & Technology: Part B-Microelectronics & Nanometer Structures; 1994, Vol. 12 Issue 1, p102-111, 10p
Zobrazit plný text záznamu
6
Akademický článek
A study of target heating in low-energy ion-beam processing.
Autor: Ringel, S. A., Mu, X. C., Fonash, S. J., Ashok, S.
Publikováno v: Journal of Vacuum Science & Technology: Part A-Vacuums, Surfaces & Films; 1986, Vol. 4 Issue 5, p2385-2388, 4p
Zobrazit plný text záznamu
7
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
8
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
9
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
10
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.

Vyhledávací nástroje:

Upřesnit hledání

Omezení vyhledávání
Plný text Recenzováno Digitální knihovna AV ČR
Zdroje