Zobrazeno 1 - 10 of 34 pro vyhledávání: '"Moshkalyov, S."'
1
Conference
Plasma Diagnostics in High Density Reactors.
Autor: Daltrini, A. M., Moshkalyov, S., Monteiro, M. J. R., Machida, M., Kostryukov, A., Besseler, E., Biasotto, C., Diniz, J. A.
Publikováno v: AIP Conference Proceedings; 2006, Vol. 875 Issue 1, p176-179, 4p, 7 Graphs
Zobrazit plný text záznamu
2
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
3
Akademický článek
Mechanisms of silicon nitride etching by electron cyclotron resonance plasmas using SF6- and NF3-based gas mixtures.
Autor: Reyes-Betanzo, C., Moshkalyov, S. A., Ramos, A. C. S., Swart, J. W.
Publikováno v: Journal of Vacuum Science & Technology: Part A-Vacuums, Surfaces & Films; 2004, Vol. 22 Issue 4, p1513-1518, 6p
Zobrazit plný text záznamu
4
Akademický článek
Silicon nitride etching in high- and low-density plasmas using SF6/O2/N2 mixtures.
Autor: Reyes-Betanzo, C., Moshkalyov, S. A., Swart, J. W., Ramos, A. C. S.
Publikováno v: Journal of Vacuum Science & Technology: Part A-Vacuums, Surfaces & Films; 2003, Vol. 21 Issue 2, p461-469, 9p
Zobrazit plný text záznamu
5
Akademický článek
Diagnostic of rf discharge plasma by Thomson scattering with gated intensified charge coupled device detectors.
Autor: Moshkalyov, S. A., Thompson, C., Morrow, T., Graham, W. G.
Publikováno v: Journal of Vacuum Science & Technology: Part A-Vacuums, Surfaces & Films; 2000, Vol. 18 Issue 4, p1395-1400, 6p
Zobrazit plný text záznamu
6
Akademický článek
Spatially resolved optical emission study of sputtering in reactive plasmas.
Autor: Moshkalyov, S. A., Machida, M., Campos, D. O., Dulkin, A.
Publikováno v: Journal of Vacuum Science & Technology: Part A-Vacuums, Surfaces & Films; 1998, Vol. 16 Issue 2, p514-523, 10p
Zobrazit plný text záznamu
7
Akademický článek
Deposition of silicon nitride by low-pressure electron cyclotron resonance plasma enhanced chemical vapor deposition in N2/Ar/SiH4.
Autor: Moshkalyov, S. A., Diniz, J. A., Swart, J. W., Tatsch, P. J., Machida, M.
Publikováno v: Journal of Vacuum Science & Technology: Part B-Microelectronics & Nanometer Structures; 1997, Vol. 15 Issue 6, p2682-2687, 6p
Zobrazit plný text záznamu

Vyhledávací nástroje:

Upřesnit hledání

Omezení vyhledávání
Plný text Recenzováno Digitální knihovna AV ČR
Zdroje