Fabrication of bipolar transistors by maskless ion implantation.

Autor: Reuss, Robert H., Morgan, Damon, Goldenetz, Ann, Clark, William M., Rensch, David B., Utlaut, Mark

Publikováno v: Journal of Vacuum Science & Technology: Part B-Microelectronics Processing & Phenomena; 1986, Vol. 4 Issue 1, p290-294, 5p

Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.