Výsledky vyhledávání - "Molecular glass"

Akademický článek

Effective Optimization Strategy for Electron Beam Lithography of Molecular Glass Negative Photoresist

Autor: Jiaxing Gao, Siliang Zhang, Xuewen Cui, Xue Cong, Xudong Guo, Rui Hu, Shuangqing Wang, Jinping Chen, Yi Li, Guoqiang Yang

Publikováno v: Advanced Materials Interfaces, Vol 10, Iss 20, Pp n/a-n/a (2023)

Abstract As the crucial dimension (CD) of logic circuits continues to shrink, the photoresist metrics, including resolution, line edge roughness, and sensitivity, are faced with significant challenges. Photoresists are indispensable in the integrated

Externí odkaz: https://doaj.org/article/d2d1ae8dc0e64c1fba2863baddb479d8

Zobrazit plný text záznamu

Akademický článek

Characterising the glass transition temperature-structure relationship through a recurrent neural network

Autor: Claudia Borredon, Luis A. Miccio, Silvina Cerveny, Gustavo A. Schwartz

Publikováno v: Journal of Non-Crystalline Solids: X, Vol 18, Iss , Pp 100185- (2023)

Quantitative structure-property relationship (QSPR) is a powerful analytical method to find correlations between the structure of a molecule and its physicochemical properties. The glass transition temperature (Tg) is one of the most reported propert

Externí odkaz: https://doaj.org/article/2267ccb27aa64010b5669d0902cc7a09

Zobrazit plný text záznamu

Akademický článek

Optical Erasure and Reconfiguration of Surface‐Relief‐Gratings of Azo Polymer and Azo Molecular Glass: A Comparative Study on Soft‐Lithographic Duplicates

Autor: Xu Li, Hao Huang, Xiaogong Wang

Publikováno v: Advanced Photonics Research, Vol 4, Iss 1, Pp n/a-n/a (2023)

Surface‐relief‐gratings (SRGs) of azo polymers and azo molecular glasses have attracted considerable interest for their erasable and reconfigurable characteristics. Herein, the optical erasure of soft‐lithographically duplicated SRGs of an azo

Externí odkaz: https://doaj.org/article/1a725b6bf9b8420aa17ceceb9c16814c

Zobrazit plný text záznamu

Akademický článek

Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.

Akademický článek

Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.

Akademický článek

Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.

Akademický článek

Negative-tone molecular glass photoresist for high-resolution electron beam lithography

Autor: Yafei Wang, Long Chen, Jiating Yu, Xudong Guo, Shuangqing Wang, Guoqiang Yang

Publikováno v: Royal Society Open Science, Vol 8, Iss 3 (2021)

A low molecular weight organic compound containing bis-phenol A backbone (BPA-6OH) is reported as a negative-tone photoresist. This material has a high glass transition temperature and excellent thermal stability. A good contrast, well-resolved line

Externí odkaz: https://doaj.org/article/7d1665b2456d435b83473c69a71a892b

Zobrazit plný text záznamu