Zobrazeno 1 - 3
of 3
pro vyhledávání: '"Moersch, T."'
Autor:
Constantin Vahlas, Caussat, B., Senocq, F., Gladfelter, W. L., Sarantopoulos, C., Toro, D., Moersch, T.
Publikováno v:
Scopus-Elsevier
Chemical vapor deposition (CVD) using precursors that are solids at operating temperatures and pressures, presents challenges due to their relatively low vapor pressures. In addition, the sublimation rates of solid state precursors in fixed bed react
Externí odkaz:
https://explore.openaire.eu/search/publication?articleId=dedup_wf_001::097888dbb90fd7ca77c25a953b7b7bb4
https://oatao.univ-toulouse.fr/1287/
https://oatao.univ-toulouse.fr/1287/
Publikováno v:
Chemical Vapor Deposition; Mar2007, Vol. 13 Issue 2/3, p123-129, 7p
Conference
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.