Výsledky vyhledávání - "Mo, Wang Pen"

Conference

Process window monitoring: an emerging requirement for efficient low-k1 lithography.

Autor: Chiua, S. S., Chu, Yao-Chang, Hsieh, J. C., Mo, Wang Pen, Wu, C. M., Teng, Thomas, Slessor, Mike D.

Publikováno v: Proceedings of SPIE; Nov2003, Issue 1, p871-881, 11p

Zobrazit plný text záznamu

Conference

Alternating PSM phase defect printability for 100-nm KrF lithography.

Autor: Kim, Juhwan, Mo, Wang Pen, Gordon, Ronald L., Williams, Alvina M.

Publikováno v: Proceedings of SPIE; Nov2000 Part 2, Issue 1, p308-320, 13p

Zobrazit plný text záznamu

Conference

Optimization of 300-mm coat, exposure, and develop processes for 180-nm and smaller features.

Autor: Swanson, Walter H., Petersen, John S., Mo, Wang Pen, Heck, Joseph A.

Publikováno v: Proceedings of SPIE; Nov1999, Issue 1, p947-966, 20p

Zobrazit plný text záznamu